Canon Nanoimprint Lithography: Προς μια νέα εποχή για την παραγωγή τσιπ
Η NIL διαφοροποιείται από την DUV και EUV τεχνολογία, καθώς χρησιμοποιεί έναν καλούπι για να «σφραγίσει» το σχέδιο κυκλωμάτων απευθείας στο υπόστρωμα αντί να προβάλλει το σχέδιο με φως. Αυτή η μέθοδος μπορεί να μειώσει το κόστος παραγωγής και να επιτρέψει την αναπαραγωγή πολύπλοκων σχεδίων με μεγαλύτερη ακρίβεια. Αν και η NIL μπορεί να παράγει τσιπ στα 5nm και ενδεχομένως να φτάσει τα 2nm στο μέλλον, υπάρχουν προκλήσεις, όπως η ανάγκη για νέα υλικά και η προστασία από σωματίδια σκόνης που μπορούν να επηρεάσουν την ποιότητα.
Παρά τις δυσκολίες, η Canon στοχεύει στην πώληση 10 έως 20 συστημάτων ετησίως μέσα στα επόμενα τρία με πέντε χρόνια, ελπίζοντας πως οι δοκιμές στο TIE θα πείσουν τους κατασκευαστές να υιοθετήσουν την NIL. Ωστόσο, η ενσωμάτωση της NIL στη σημερινή παραγωγή τσιπ είναι δύσκολη, καθώς η τεχνολογία δεν συμβαδίζει με τις ροές εργασίας DUV ή EUV, αναγκάζοντας τους κατασκευαστές να σχεδιάσουν νέες διαδικασίες παραγωγής, κάτι που ενέχει υψηλό κόστος και ρίσκο.
659
